Room 309        High-power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) (高功率脉冲磁控溅射技术)        
Invited speakers in High-power Impulse Magnetron Sputtering, HiPIMS symposium:


  Dr. Mike
        Hopkins [Ireland]

Chief
                Executive Officer

Impedans
                Ltd.,
Presentation
                title:
  Plasma Diagnostics in HiPIMS



Prof. Xiubo
        Tian [China]
State Key
        Laboratory of Advanced Welding and Joining
Harbin Institute
        of Technology
Presentation
        title:
  High power impulse magnetron sputtering based on novel waveform
        configuration

  
Prof. Qiang Chen
        [China]
Beijing
        Institute of Graphic Communication
Presentation
        title:
  Semi-Condutivity ZnO film Prepared by HiPIMS
  

  
Dr. Ivan
        Fernandez-Martinez [Spain]
Nano4Energy SL
  
Presentation
        title:
  Industrial use of HiPIMS with voltage reversal: high deposition rate of
        metal nitrides

13 September 2018
High-power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)
Room 309


Chairs：Yuan Xia, China Liuhe Li,Mike Hopkins
☆ High Power Impulse Magnetron Sputtering Based On Novel Waveform Configuration
Xiubo Tian
Harbin Institute of Technology, China
☆ Plasma Diagnostics in HiPIMS
Mike Hopkins
Impedans Ltd., Ireland
Discharge characteristics of superimposedHiPIMS-MF and properties of as-prepared Nitride nanocomposite coatings
Deen Sun
Chongqing University, China
Gas breakdown and discharge formation in high power impulse magnetron sputtering
Peiling Ke
Ningbo Institute of Materials Technology and Engineering, CAS, China
Hipimsindustrializationunderhighionization applications
Jialei Chen
TRUMPF Huttinger, Germany
Mass spectrometry diagnostics of the ion energy and ion flux during bipolar pulsed high power impulse magnetron sputteringof titanium nitride
Jiabin Gu
Linköping university, Sweden Beihang University, China
Discharge and deposition of HiPIMS basedon cylindrical-shape cathode
Zhongzhen Wu
Peking University Shenzhen Graduate School, China
☆ Semi-Condutivity ZnO film Prepared by HiPIMS
Qiang Chen
Beijing Institute of Graphic Communication, China
☆ Industrial use of HiPIMS with voltage reversal: high deposition rate of metalnitrides
Ivan Fernandez-Martinez Nano4Energy SL, Spain
The construction of aminated diamond-likecarbon coating onto polyetheretherketone with better osseointegration
Huaiyu Wang
Shenzhen Institutes of Advanced Technology, CAS, China
Effects of HiPIMS pulse-length on plasma discharge and on the properties of WC-
DLC coatings
Lei Wang
Beihang University, China
Study on the thermal stability of the Zr-B- O-N coatings fabricated by hybrid coatingsystem
Tiegang Wang
Tianjin University of Technology and Education, China
Compositiondependedionextraction characteristics of cylindrical-shape cathodeassisted by the electromagnetic attractor
Suihan Cui
Peking University Shenzhen Graduate School, China
2018年9月13日

大功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）  

309室  

 

主持人：袁霞，中国六合理，迈克霍普金斯

时间

标题

08：15-08：35

☆  基于新型波形配置的高功率脉冲磁控溅射

秀博田

哈尔滨工业大学，中国

 

08：35-08：55

☆ HiPIMS中的等离子诊断

迈克霍普金斯

Impedans Ltd.，爱尔兰

 

 

08：55-09：10

叠加HiPIMS-MF的放电特性和制备的氮化物纳米复合涂层的性能

Deen Sun

中国重庆大学

09：10-09：25

高功率脉冲磁控溅射中的气体击穿和放电形成

Peiling Ke

中国科学院宁波材料技术与工程研究所

09：25-09：40

Hipims 在高电离应用下的工业化    

陈佳蕾

TRUMPF Huttinger，德国

09：40-09：55

双极脉冲高功率脉冲磁控溅射氮化钛时离子能量和离子流的质谱诊断

顾嘉宾

瑞典林雪平大学，中国

 

09：55-10：10

基于圆柱形阴极的HiPIMS的放电和沉积

吴忠真

北京大学深圳研究生院，中国

10：10-10：20

茶歇

10：20-10：40

☆  半导体ZnO薄膜由HiPIMS制备

陈强

中国北京印刷学院

10：40-11：00

☆ 具有电压反转的HiPIMS的工业用途：金属氮化物的高沉积速率  

Ivan Fernandez-Martinez Nano4Energy SL，西班牙

 

 

11：00-11：15

在聚醚醚酮上构建胺化类金刚石碳涂层，具有更好的骨整合作用

王怀宇

中国科学院深圳先进技术研究院

 

 

11：15-11：30

HiPIMS脉冲长度对等离子体放电和WC-性能的影响

DLC涂层

王磊

中国北京航空航天大学

 

 

11：30-11：45

混杂涂层体系制备Zr-B-ON涂层的热稳定性研究

王铁刚

天津工业大学，中国

 

 

11：45-12：00

组成依赖于电磁吸引子辅助的圆柱形阴极的离子提取特性    

崔隋汉

北京大学深圳研究生院，中国

http://www.25ifhtse.org/dct/page/70045